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項(xiàng)目背景：光電領(lǐng)域的測(cè)控需求

在全球技術(shù)不斷發(fā)展的趨勢(shì)下，光電作為通用型技術(shù)，廣泛應(yīng)用于航空航天、半導(dǎo)體、能源、5G、醫(yī)療等領(lǐng)域。我國(guó)出臺(tái)多項(xiàng)政策支持光電技術(shù)研發(fā)和應(yīng)用，并推動(dòng)國(guó)際合作和光電產(chǎn)業(yè)發(fā)展。 

在光電技術(shù)研究和生產(chǎn)中，涉及頻繁的流體流量控制和計(jì)量工作，對(duì)準(zhǔn)確度和可靠性有較高要求。在測(cè)控測(cè)量?jī)x器選擇上，光電企業(yè)或?qū)嶒?yàn)室會(huì)根據(jù)工況和需求，提出更嚴(yán)謹(jǐn)和專(zhuān)業(yè)的品控要求。

客戶(hù)介紹：國(guó)內(nèi)某光電研究所

近期，精量科技接到國(guó)內(nèi)某光電研究所需求，最終根據(jù)解決方案，分多批次采購(gòu)了定制化的ACU20PCD型號(hào)雙閥壓力控制器。 

該研究所屬?lài)?guó)家級(jí)重點(diǎn)研究所，規(guī)模較大，研究方向和領(lǐng)域廣泛，在國(guó)內(nèi)光電研究上取得卓越成就，在光電研發(fā)和應(yīng)用方面具有重要的地位和影響力。

工況需求：縮短氣控時(shí)間，提升穩(wěn)壓速度

精量科技的技術(shù)負(fù)責(zé)人首先和研究所對(duì)接人溝通具體工況及技術(shù)細(xì)節(jié)。

在光電相關(guān)作業(yè)中，涉及的目標(biāo)腔體由吸盤(pán)和光學(xué)元件組成。操作者向光學(xué)元件內(nèi)注入氣體氣壓，通過(guò)氣壓來(lái)影響光學(xué)元件形變。

因光學(xué)元件薄壁厚度較薄，加之工況需求調(diào)整，研究所對(duì)氣壓的控制響應(yīng)時(shí)間，即穩(wěn)壓時(shí)間提出了較高要求。 

既有的工況中，氣源經(jīng)過(guò)壓力控制器，直接進(jìn)入目標(biāo)腔體，穩(wěn)壓時(shí)間（氣控時(shí)間）相對(duì)較長(zhǎng)。

該光電研究所向精量科技技術(shù)負(fù)責(zé)人提出以下需求：

 1.縮短氣控時(shí)間，提高氣控精度； 

2.在氣壓控制上，氣壓范圍要符合工況要求； 

3.各項(xiàng)精度符合工況，精確控制薄壁形變；

4.可以提供及時(shí)到位的售后咨詢(xún)和服務(wù)。

解決方案：結(jié)合實(shí)際工況，定制化解決方案

基于該光電研究所提供的工況及細(xì)節(jié)，精量科技的技術(shù)負(fù)責(zé)人提供一套定制化的解決方案： 從氣源到目標(biāo)控壓腔體之間，除了雙閥壓力控制器外，分別增加一個(gè)2L的氣罐和一個(gè)電磁閥。

具體過(guò)程和效果如下： 在初始狀態(tài)下，電磁閥處于關(guān)閉狀態(tài)。 先通過(guò)精量科技ACU20PCD雙閥壓力控制器，給下游的氣罐充氣至6KPa左右，等待預(yù)制大腔體壓力穩(wěn)定后，再將電磁閥打開(kāi)，給目標(biāo)控壓腔體充氣。

同時(shí)，雙閥控制器將壓力控制設(shè)定為5KPa，成功實(shí)現(xiàn)100ms內(nèi)將腔體壓力控制為5KPa。

圖：為某光電研究所提供的解決方案中使用的定制化雙閥壓力控制器

項(xiàng)目收益：有效提升作業(yè)效率

該光電研究所利用精量科技的定制化解決方案，實(shí)現(xiàn)了最初的預(yù)想，并取得以下收益：

1.氣控時(shí)間達(dá)到預(yù)期要求，氣控精度進(jìn)一步提升； 

2.氣壓范圍等參數(shù)符合實(shí)際工況，滿(mǎn)足作業(yè)中的精密氣控標(biāo)準(zhǔn)； 

3.有效提升作業(yè)效率和質(zhì)量；

該光電研究所根據(jù)精量科技提供的解決方案，先后分批次采購(gòu)對(duì)應(yīng)的定制化ACU20PCD雙閥壓力控制器，用于光電項(xiàng)目生產(chǎn)作業(yè)中。